на обратный звонок и мы свяжемся с вами в ближайшее время
Получите коммерческое предложение на установки
Оставьте заявку и мы свяжемся с вами в ближайшее время
Оставьте заявку
на консультацию и мы свяжемся с вами в ближайшее время
Преимущества наших установок
Технология изготовления рабочей камеры
Камера изготавливается из цельного алюминиевого блока путем прецизионной механической обработки (лапинг-процесс), с последующей ультразвуковой чисткой. Данная технология значительно снижает уровень утечки в вакууме, по сравнению с камерами из нержавеющей стали, изготовленными методом электродуговой сварки, и повышает качественные характеристики процесса плазменной обработки.
Установки могут иметь до 4 газовых линий с автоматическими РРГ (MFC), в зависимости от конфигурации (использование хлорной химии не допускается). Каждая установка оснащается линиями продувки и напуска (азот, СDA, атмосферный воздух) с разъемами 1/4" типа Swagelok.
Инновационный дизайн подачи газа в камеру обеспечивает равномерный поток газа во время процесса обработки, тем самым формируя равномерное распределение плазмы в объеме рабочей камеры.
Цветной сенсорный дисплей 7" и доступное программное обеспечение, с возможностью создания и хранения до 10 рецептов, графическое отображение рабочих параметров в режиме реального времени (давление, мощность, время обработки и т.д.) и перенос данных на USB-флешку - все это не требует наличия специальных навыков персонала при работе с установкой, будь это инженер или студент университета
Благодаря возможности плазменной обработки в различных газовых средах, таких как O2, Ar, H2, CF4, SF6 и регулируемому диапазону частот генератора плазмы (20 - 100 кГц), а также использование ВЧ-генератора с частотой 13,56 МГц, достигается широкий спектр применения данных установок для задач научно- исследовательских центров или промышленного производства.
Камера изготавливается из цельного алюминиевого блока путем прецизионной механической обработки (лапинг-процесс), с последующей ультразвуковой чисткой. Данная технология значительно снижает уровень утечки в вакууме, по сравнению с камерами из нержавеющей стали, изготовленными методом электродуговой сварки, и повышает качественные характеристики процесса плазменной обработки.
Установки могут иметь до 4 газовых линий с автоматическими РРГ (MFC), в зависимости от конфигурации (использование хлорной химии не допускается). Каждая установка оснащается линиями продувки и напуска (азот, СDA, атмосферный воздух) с разъемами 1/4" типа Swagelok.
Инновационный дизайн подачи газа в камеру обеспечивает равномерный поток газа во время процесса обработки, тем самым формируя равномерное распределение плазмы в объеме рабочей камеры.
Цветной сенсорный дисплей 7" и доступное программное обеспечение, с возможностью создания и хранения до 10 рецептов, графическое отображение рабочих параметров в режиме реального времени (давление, мощность, время обработки и т.д.) и перенос данных на USB-флешку - все это не требует наличия специальных навыков персонала при работе с установкой, будь это инженер или студент университета
Благодаря возможности плазменной обработки в различных газовых средах, таких как O2, Ar, H2, CF4, SF6 и регулируемому диапазону частот генератора плазмы (20 - 100 кГц), а также использование ВЧ-генератора с частотой 13,56 МГц, достигается широкий спектр применения данных установок для задач научно- исследовательских центров или промышленного производства.
Установки плазменной обработки для широкого спектра направлений
Благодаря возможности плазменной обработки в различных газовых средах, таких как O2, Ar, H2, CF4, SF6 и регулируемому диапазону частот генератора плазмы (20 - 100 кГц), а также использование ВЧ-генератора с частотой 13,56 МГц, достигается широкий спектр применения данных установок для задач научно-исследовательских центров или промышленного производства.
Микроэлектроника, наноэлектроника
Снятие фоторезиста
Оптоэлектроника
Производство печатных плат
Плазменная очистка
Плазменная активация поверхности
Научно-исследовательские центры и лаборатории
Обработка поверхности перед cваркой, пайкой, заливкой
Предварительная обработка перед нанесением лакового покрытия, клеящих веществ
Создания гидрофильных (притягивающих воду)/ гидрофобных (водоотталкивающих) покрытий
Обработка 2D и 3D материалов
Приборы на основе графена
Микрофлюидика
Биоинженерия
Тканевая инженерия
Медицина
Установки плазменной обработки для широкого спектра направлений
Каталог плазменных установок
CUTE
COGRADE
COVANCE
COWIN
CUTE
Настольная установка плазменной обработки низкого давления
Режим работы: ручной или автоматический Размер образцов: до 100 х 100 мм Частота генератора плазмы: 20 - 100 кГц Мощность: до 100 Вт (200 Вт опционально) Размер установки: 580 x 610 x 350 мм Материал рабочей камеры: алюминий или кварц Габаритные размеры камеры: 140мм x 200мм x 110мм (ДхШхВ), алюминий; Ø100 х 200 мм (Д), кварц;
Вакуумный насос: Скорость откачки: 80 л/мин (5 м3/ч) Предельное давление: 5 х 10-3 Торр
Газовые линии: Число газовых линий: стнд. 1 линия с цифровым РРГ (MFC), макс. до 3 линий. Разъем для подключения 1/4" типа Swagelok Линия напуска и продувки: азот, воздух, CDA разъем для подключения 1/4" типа Swagelok
Профессиональная установка плазменной обработки низкого давления
Режим работы: ручной или автоматический Размер образцов: до 150 х 150 мм Частота генератора плазмы: 13.56 МГц Мощность: до 200 Вт Размер установки: 700 x 650 x 770 мм
Материал рабочей камеры: алюминий или кварц Габаритные размеры камеры: 200мм x 220мм x 160мм (ДхШхВ), алюминий; Ø150 х 250 мм (Д), кварц;
Вакуумный насос: Скорость откачки: 80 л/мин (5 м3/ч) Предельное давление: 1 х 10-3 Торр
Газовые линии:Число газовых линий: стнд. 1 линия с цифровым РРГ (MFC), макс. до 3 линий. Разъем для подключения 1/4" типа Swagelok Линия напуска и продувки: азот, воздух, CDA разъем для подключения 1/4" типа Swagelok
Установка плазменной обработки низкого давления для производственных нужд
Режим работы: ручной или автоматический Размер образцов: до 225 х 275 мм Частота генератора плазмы: 13.56 МГц Мощность: до 300 Вт Размер установки: 700 x 680 x 550 мм
Материал рабочей камеры: алюминий или кварц Габаритные размеры камеры:250мм x 300мм x 200мм (ДхШхВ), алюминий; Ø200 x 250 мм (Д), кварц;
Вакуумный насос: Скорость откачки: 160 л/мин (9,6 м3/ч) Предельное давление: 1 х 10-3 Торр
Газовые линии:Число газовых линий: стнд. 1 линия с цифровым РРГ (MFC), макс. до 3 линий. Разъем для подключения 1/4" типа Swagelok Линия напуска и продувки: азот, воздух, CDA разъем для подключения 1/4" типа Swagelok
Установка плазменной обработки, изготовленная под индивидуальные требования
Режим работы: ручной или автоматический Размер образцов: до 100 х 100мм Частота генератора плазмы: 13.56 МГц Мощность: до 100 Вт (200 Вт опционально) Размер установки: 580 x 610 x 350 мм
Материал рабочей камеры: алюминий или кварц Габаритные размеры камеры: 140мм x 200мм x 110мм (ДхШхВ), алюминий; Ø100 х 200 мм (Д), кварц;
Вакуумный насос: Скорость откачки: 80 л/мин (5 м3/ч) Предельное давление: 5 х 10-3 Торр
Газовые линии:Число газовых линий: стнд. 1 линия с цифровым РРГ (MFC), макс. до 3 линий. Разъем для подключения 1/4" типа Swagelok Линия напуска и продувки: азот, воздух, CDA разъем для подключения 1/4" типа Swagelok
Настольная установка плазменной обработки низкого давления
Режим работы: ручной или автоматический Размер образцов: до 100 х 100 мм Частота генератора плазмы: 20 - 100 кГц Мощность: до 100 Вт (200 Вт опционально) Размер установки: 580 x 610 x 350 мм Материал рабочей камеры: алюминий или кварц Габаритные размеры камеры: 140мм x 200мм x 110мм (ДхШхВ), алюминий; Ø100 х 200 мм (Д), кварц;
Вакуумный насос: Скорость откачки: 80 л/мин (5 м3/ч) Предельное давление: 5 х 10-3 Торр
Газовые линии: Число газовых линий: стнд. 1 линия с цифровым РРГ (MFC), макс. до 3 линий. Разъем для подключения 1/4" типа Swagelok Линия напуска и продувки: азот, воздух, CDA разъем для подключения 1/4" типа Swagelok
Профессиональная установка плазменной обработки низкого давления
Режим работы: ручной или автоматический Размер образцов: до 150 х 150 мм Частота генератора плазмы: 13.56 МГц Мощность: до 200 Вт Размер установки: 700 x 650 x 770 мм
Материал рабочей камеры: алюминий или кварц Габаритные размеры камеры:200мм x 220мм x 160мм (ДхШхВ), алюминий; Ø150 х 250 мм (Д), кварц;
Вакуумный насос: Скорость откачки: 80 л/мин (5 м3/ч) Предельное давление: 1 х 10-3 Торр
Газовые линии:Число газовых линий: стнд. 1 линия с цифровым РРГ (MFC), макс. до 3 линий. Разъем для подключения 1/4" типа Swagelok Линия напуска и продувки: азот, воздух, CDA разъем для подключения 1/4" типа Swagelok
Установка плазменной обработки низкого давления для производственных нужд
Режим работы: ручной или автоматический Размер образцов: до 225 х 275 мм Частота генератора плазмы: 13.56 МГц Мощность: до 300 Вт Размер установки: 700 x 680 x 550 мм
Материал рабочей камеры: алюминий или кварц Габаритные размеры камеры:250мм x 300мм x 200мм (ДхШхВ), алюминий; Ø200 x 250 мм (Д), кварц;
Вакуумный насос: Скорость откачки: 160 л/мин (9,6 м3/ч) Предельное давление: 1 х 10-3 Торр
Газовые линии:Число газовых линий: стнд. 1 линия с цифровым РРГ (MFC), макс. до 3 линий. Разъем для подключения 1/4" типа Swagelok Линия напуска и продувки: азот, воздух, CDA разъем для подключения 1/4" типа Swagelok
Установка плазменной обработки низкого давления для производственных нужд
Режим работы: ручной или автоматический Размер образцов: до 225 х 275 мм Частота генератора плазмы: 13.56 МГц Мощность: до 300 Вт Размер установки: 700 x 680 x 550 мм
Материал рабочей камеры: алюминий или кварц Габаритные размеры камеры:250мм x 300мм x 200мм (ДхШхВ), алюминий; Ø200 x 250 мм (Д), кварц;
Вакуумный насос: Скорость откачки: 160 л/мин (9,6 м3/ч) Предельное давление: 1 х 10-3 Торр
Газовые линии:Число газовых линий: стнд. 1 линия с цифровым РРГ (MFC), макс. до 3 линий. Разъем для подключения 1/4" типа Swagelok Линия напуска и продувки: азот, воздух, CDA разъем для подключения 1/4" типа Swagelok
Установка плазменной обработки, изготовленная под индивидуальные требования
Режим работы: ручной или автоматический Размер образцов: до 100 х 100мм Частота генератора плазмы: 13.56 МГц Мощность: до 100 Вт (200 Вт опционально) Размер установки: 580 x 610 x 350 мм
Материал рабочей камеры: алюминий или кварц Габаритные размеры камеры:140мм x 200мм x 110мм (ДхШхВ), алюминий; Ø100 х 200 мм (Д), кварц;
Вакуумный насос: Скорость откачки: 80 л/мин (5 м3/ч) Предельное давление: 5 х 10-3 Торр
Газовые линии:Число газовых линий: стнд. 1 линия с цифровым РРГ (MFC), макс. до 3 линий. Разъем для подключения 1/4" типа Swagelok Линия напуска и продувки: азот, воздух, CDA разъем для подключения 1/4" типа Swagelok
Установка плазменной обработки, изготовленная под индивидуальные требования
Режим работы: ручной или автоматический Размер образцов: до 100 х 100мм Частота генератора плазмы: 13.56 МГц Мощность: до 100 Вт (200 Вт опционально) Размер установки: 580 x 610 x 350 мм
Материал рабочей камеры: алюминий или кварц Габаритные размеры камеры:140мм x 200мм x 110мм (ДхШхВ), алюминий; Ø100 х 200 мм (Д), кварц;
Вакуумный насос: Скорость откачки: 80 л/мин (5 м3/ч) Предельное давление: 5 х 10-3 Торр
Газовые линии:Число газовых линий: стнд. 1 линия с цифровым РРГ (MFC), макс. до 3 линий. Разъем для подключения 1/4" типа Swagelok Линия напуска и продувки: азот, воздух, CDA разъем для подключения 1/4" типа Swagelok
Цены ниже без потери качества, напрямую от производителя
Мы являемся эксклюзивным дилером компании Femto Science, поэтому вы получите оборудование по самым низким ценам.
82% клиентов остаются довольными от нашего предложения, благодаря грамотному подбору сложного оборудования и предоставления лучших условий
01
Цена
Широкий спектр оборудования
как для
Дополнительно имеем возможность изготавливать оборудование с применением опций сверх стандартной комплектации
Полныйцикл взаимодействия с заказчиком
Начиная от подбора оборудования и решения, до фактической поставки, подключения, пуско-наладки, инструктажа и последующего обслуживания оборудования как в течение гарантийного так и постгарантийного срока.
В 2019 году Заказчик АО «НИИграфит» приобрел у нас установку Covance 2MPR-RF. Установка предназначена для плазмохимической очистки и активации поверхностей полимерных и керамических подложек высокочастотной плазмой в инертных газах, кислороде и газовых смесях для получения гидрофильности.
LET'S GO!
LET'S GO!
LET'S GO!
LET'S GO!
LET'S GO!
LET'S GO!
Заказчик: Московский государственный университет имени М.В.Ломоносова
В 2019 году мы подобрали и реализовали для «Московского государственного университета имени М.В.Ломоносова установку CUTE-2MPR, которая идеально подошла для решения задачи по снятию фоторезиста с поверхности заготовки для печатной платы.
В 2018 году мы выполнили проекта по поставке ФГБОУ ВО "МГУ ИМ. Н.П. ОГАРЁВА" установки CUTE-1MPR. В данном случае установка успешно используется для плазмохимической очистки пластин термокомпенсаторов из высокопрочных композиционных материалов.
В 2018 году "ЗЭНКО ПЛАЗМА" поставила "Нижнетагильскому институту испытания металлов" установку COWIN-2MPR-RF для реконструкции комплекса по производству полигонного измерительного оборудования. Оборудование предназначено для очистки от органических загрязнений, активации поверхности в среде инертных газов, травления, создания гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизации, снятия и подчистки фоторезиста на ситалловых подложках и полиимидной пленке.